光谱仪氩气净化机
光谱仪氩气净化机

光谱仪氩气净化机

一、技术参数:

1、处理气量:1-300m3/h

2、原料气纯度:≥99.9%

3、纯化后符合并高于GB/T4842-2006的99.9999%要求

各项指标如下: H2≤0.1ppm O2≤0.2.ppm N2≤0.2.ppm

含碳量≤1.ppm 露点 1.ppm

工作压力0.2-0.8MPa可调

4.净化剂寿命:使用寿命长,长时间使用无需更换净化剂及干燥剂

5..操作温度低:300-600℃,保温性能好,最大限度的降低了使用成本

6.外形尺寸小:宽550*深650*高1500mm,人性化的高度设计,增加了可控性及整体协调感

7.电源:50H 220V,无需拉专线,一般的电源插座就可满足使用

8.功耗:.2Kw,常温工作,大大减低了能耗

9.重量:≈150Kg,重量轻,移动方便

10.全BA级内外精处理管配管。进口卡套式球阀。杜绝了气体流经管路的再次污染,一次安装终身使用,真正做到零泄漏及无故障运行

高纯氩气主要用途:用于焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等金属保护。电子化工,电光源,医学科研等领域,高纯气体纯化器服务于光伏产业高纯保护气氛,满足色谱,光谱,质谱等现代仪表需要

光谱仪氩气净化机技术保障措施;

1 组合式纯化工艺,分级处理。

2 净化器采用特殊结构和装料方法,流速设计合理,气流分布均匀。

3 净化炉采用特殊设计的加热构造,加热均匀、稳定。

4 采用优质管件,阀门,避免管道和阀门影响气体质量。

5 采用优质的电器元件和控制仪表,保证温度稳定,减少温度和影响。

6 净化器的活化程序,严格按照活化程序执行,根据现场实际情况适当调整。

7 对用户的操作员进行设备操作培训,了解设备工作原理,掌握设备操作方法,熟悉设备的开车、停车、停电、停水处理方法。

8 对用户设备建立档案,及时提醒用户对设备进行例行检查和维护。是设备处在最佳工作状态。

本装置可与区熔硅单晶炉配套使用,也可用于激光器、溅射、真空溅射镀膜机。半导体生产、光谱仪,气相色谱仪、特殊灯泡、稀有金属加工等需要用高纯氩气的生产技术领域。

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